净化工程
欢迎查看贵阳净化工程,千级净化工程
电话;4000045626 0851-85987828 15348648111 洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最佳湿度范围为35-45%。
（此内容由www.51jhcl.com提供）
相关文章
- 实验室净化里的这几点？贵州实验室净化工程告诉您应该注意了2017年03月14日
- 净化工程施工与设计注意事项贵州净化工程厂家为您详细讲解2017年03月14日
- 净化工程队未来生活的重要性贵阳净化工程公司知道2017年12月05日
- 在这脑洞大开的年代贵阳净化工程的应用价值得到充分体现2018年01月09日
- 如何更好的发挥贵阳净化工程的作用使空气质量得到保障呢2017年11月28日
